°æ»óºÏµµ ±¸¹Ì½ÃÀÇ ÇâÅä±â¾÷ ¢ß¿øÀÍÅ¥¿£¾¾°¡ Ä·ÆÛ½º S ÁØ°ø½ÄÀ» °³ÃÖÇÏ°í ±¸¹Ì½Ã¹ÝµµÃ¼»ê¾÷ƯȴÜÁö Á¶¼ºÀÇ Ãʼ®À» ´ÙÁ³´Ù.
27ÀÏ ±¸¹Ì½Ã¿¡ µû¸£¸é ¢ß¿øÀÍÅ¥¿£¾¾´Â 2021³â 7¿ù ¹ÝµµÃ¼ ¹× µð½ºÇ÷¹ÀÌ¿ë ¼ÒÀ硤ºÎÇ° Á¦Á¶°øÀå Áõ¼³ÅõÀÚ¾çÇØ°¢¼¸¦ ü°áÇÏ°í ÇöÀç±îÁö ºÎÁö¸éÀû 8¸¸4215§³(2¸¸5475Æò)¡¤°ÇÃà¸éÀû 4¸¸3148§³(1¸¸3052Æò)¿¡ 1400¾ï ¿øÀ» ÅõÀÚÇß´Ù.
ÇöÀç ÄõÃ÷½ÃÀå¿¡¼ ±Û·Î¹ú Á¡À¯À² 1À§¸¦ ´Þ¼ºÇÑ ¢ß¿øÀÍÅ¥¿£¾¾´Â ¹ÝµµÃ¼ µð½ºÇ÷¹ÀÌ¿ë ÄõÃ÷ ¹× ¼¼¶ó¹Í Á¦Á¶‧¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀç ÀåºñºÎÇ° ¼¼Á¤‧µð½ºÇ÷¹ÀÌ ¹× ÀÇ·á±â±â¿ë ·¥ÇÁ»ç¾÷ µî ÃÑ 4°³ÀÇ »ç¾÷À» °æ¿µÇÏ°í ÀÖ´Ù.
¶Ç ±¸¹Ì±¹°¡»ê´Ü ³» 4°³ÀÇ °øÀåÀ» ºñ·ÔÇØ ÇØ¿Ü ÃÑ19°³ °øÀå(±¹³» 5¡¤¹Ì±¹ 4¡¤´ë¸¸ 2¡¤µ¶ÀÏ 2¡¤ÀϺ» 4¡¤Áß±¹ 2)À» º¸À¯ÇÏ°í ÀÖÀ¸¸ç ÀÓÁ÷¿øÀº ÃÑ 2437¸í(±¹³» 1130¸í)ÀÌ´Ù.
¢ß¿øÀÍÅ¥¿£¾¾°¡ »ý»êÇÏ´Â ¹ÝµµÃ¼ ÄõÃ÷¿þ¾î´Â ¼¼°èÀûÀÎ ±â¼ú·Â°ú Á¦Á¶·ÂÀ» º¸À¯ÇÑ »ï¼ºÀüÀÚ¡¤SKÇÏÀ̴нº µî ±¹³» ¹ÝµµÃ¼ ±â¾÷À» ºñ·ÔÇØ TSMC‧Intel‧Micron µî ÁÖ¿ä ±Û·Î¹ú ¹ÝµµÃ¼ ¾÷ü¿Í LAM¡¡Research‧Tokyo Electron µî ±Û·Î¹ú Àåºñ Á¦Á¶¾÷ü¿¡ °ø±ÞµÇ°í ÀÖ´Ù.
ƯÈ÷ µð¹ÙÀ̽º º¯°æ¿¡ µû¸¥ ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶¿ë ChamberÀÇ Plasma Density‧Etching Gas µîÀÇ È¯°æ º¯È¿¡ µû¶ó ¹ÝµµÃ¼¿ë ºÎÇ° Particle‧Life time µîÀÇ ¹®Á¦¸¦ ÇØ°áÇϱâ À§ÇØ ÄõÃ÷¿þ¾î ¹Ì¼¼°¡°ø‧¿ëÁ¢Á¶¸³‧¼¼Á¤ ¹× ÄÚÆñâ¼úÀÇ °³¹ß¿¡ ¹ÚÂ÷¸¦ °¡ÇÏ°í ÀÖ´Ù.